鎂鋁合金靶材：精密鍍膜背后的關鍵材料

在真空鍍膜領域，鎂鋁合金靶材正成為精密涂層制備的核心材料。
這種特殊合金通過磁控濺射技術，能在玻璃、半導體等基材表面形成納米級薄膜，賦予材料全新的表面特性。

鎂鋁合金靶材的獨特優(yōu)勢在于其雙金屬協(xié)同效應。
鎂元素密度低且化學活性高，鋁元素延展性好且成本適中，兩者復合后既保持了輕量化特性，又顯著提升了鍍膜層的耐蝕性和機械強度。
通過調整鎂鋁比例在30%-70%之間的配比，可以精確調控薄膜的光學性能和導電性，滿足不同應用場景的需求。

制備工藝直接影響靶材性能。
采用真空熔煉結合熱等靜壓成型技術，可獲得密度超過98%的致密靶材。
特殊的晶粒細化處理能使晶粒尺寸控制在20微米以下，確保濺射過程中粒子均勻濺射。
值得注意的是，鎂鋁合金極易氧化，全程需在氬氣保護環(huán)境下完成加工，這對生產設備的密封性提出了嚴苛要求。

當前該材料在三個領域展現(xiàn)突出價值：光伏產業(yè)用其制備減反射涂層，提升太陽能板光電轉換效率；消費電子領域用于手機中框的PVD鍍膜，兼顧美觀與耐磨；航空航天部件表面處理中，鎂鋁薄膜能有效阻隔基體金屬腐蝕。
隨著柔性顯示技術的發(fā)展，可彎曲的鎂鋁氧化物透明導電膜成為研究熱點。

行業(yè)面臨的主要挑戰(zhàn)在于突破濺射速率與薄膜均勻性的矛盾。
較新研究發(fā)現(xiàn)，引入稀土元素微合金化可改善靶材濺射性能，將沉積速率提升30%的同時保持膜厚偏差小于5%。
未來，3D打印技術有望實現(xiàn)復雜結構靶材的一體成型，這或將徹底改變傳統(tǒng)靶材的制造方式。